技术编号：2430390
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于具有精细图案结构的。背景技术在光学材料和电子材料的领域中，需要改进一体化程度、信息量的较高密度以及图像信息的较高清晰度。因此，必须在这种领域中所使用的膜中形成精细结构(在下文中被称作精细图案结构)。具体地，在再生药中，表面上具有精细图案结构的膜的效果为细胞培养基板(见日本专利公开出版物第2001-157574号)。使用掩模的沉积方法、利用光滑反应和聚合反应的光刻技术、激光消融技术等等作为一种用于在膜中形成精细图案结构的方法应用于实际使用中...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。