技术编号:24336775
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及常压化学沉积技术领域,特别是涉及一种常压化学气相沉积设备。背景技术apcvd即常压化学气相淀积,是指在大气压下进行的一种化学气相沉积的方法,这是化学气相沉积最初所采用的方法。这种工艺所需的系统简单,反应速度快,但是均匀性较差,台阶覆盖能力差,所以一般用于厚的介质沉积。发明内容为解决以上技术问题,本发明提供一种常压化学气相沉积设备,以提高沉积薄膜的均匀性。为实现上述目的,本发明提供了如下方案:本发明提供一种常压化学气相沉积设备,包括进气箱、扩散头、加热体组件、横臂、转台、机械手、装料运载...
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