技术编号：24349165
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种使用真空紫外线对衬底进行曝光处理的曝光装置。背景技术为了使形成于衬底上的膜改质，有时会使用真空紫外线。例如，在日本专利特开2018-159828号公报中记载了一种曝光装置，该曝光装置使用真空紫外线对衬底上的包含定向自组装(directedselfassembly)材料的膜进行曝光处理。该曝光装置包括处理室、投光部及封闭部。处理室具有上部开口及内部空间。投光部以盖住处理室的上部开口的方式配置于处理室的上方。在处理室的侧面，形成着用于在处理室的内部与外部之间搬送衬底的搬送开口。封闭部构...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。