技术编号:2455154
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃制备方法,设置一玻璃基板,在所述玻璃基板上依次镀制一层氧化钛介电层,一层氮化硅介电层,一层氧化锌介电层,一层镍铬金属合金层,一层银功能层,一层镍铬金属合金层,一层氧化锌锡介电层和一层氮化硅介电层。与现有技术相比,本发明的有益效果是通过离线磁控溅射技术,在浮法玻璃基材表面制备多层膜结构,使其具有较高的透过率和选择系数,对红外区域有高反射的作用,同时能有效的降低玻璃的辐射率。专利说明 [0001] 本发明涉及玻璃镀膜,尤其...
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