用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法技术资料下载

技术编号:2468504

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本发明涉及一种新型用途的聚丙烯基膜及其制造方法,特别是。利用此种基膜可以加工出具有镭射效果的产品,并通过镭射转移,从而达到对被包装商品装饰、装璜或防伪效果。本发明的解决技术方案是,基膜由上表层、芯层、下表层构成,上表层、芯层、下表层通过热熔共挤成为一体,芯层位于上表层、下表层之间,其中下表层为转移层。上表层、下表层的厚度分别为基膜厚度的10%-12%。生产基膜的上表层、芯层、下表层的原辅材料的组份按如下比例混合配制 上表层二元共聚聚丙烯65%;三元共聚聚...
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