技术编号：2470172
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于薄膜材料领域，具体来说是关于。实际上是在高分子基层的一面或两面，利用平均粒度为0. 01 0. 5 μ m的胶体二氧化硅，形成紫外线硬化薄膜，从而形成高硬度抗阻塞的薄膜。该技术中，利用胶体二氧化硅和基层材料之间的排斥力，使胶体二氧化硅在浮上基层表面，同时在紫外线硬化薄膜表面形成具有微细凹凸的抗阻塞高硬度薄膜。背景技术进入现代社会，各种平板显示器，特别是液晶显示器和触摸屏的使用不断增加，这些薄膜材料作为零配件的使用急剧增长。其中，各种透明的树脂材料...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。