技术编号：24728736
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及抗蚀剂组合物及使用了抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案形成方法。.本申请基于年月日在大韩民国申请的韩国专利申请第‑‑号主张优先权，将其内容援引于此。背景技术.在基板上形成微细的图案并将其作为掩模进行蚀刻从而对该图案的下层进行加工的技术(图案形成技术)在半导体元件、液晶显示元件的制造中被广泛采用。通常使用由有机材料构成的抗蚀剂组合物并通过光刻法、纳米压印法等技术来形成微细的图案。例如，在光刻法中进行如下工序：在基板等支承体上，使用包含树脂等基材成分的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。