技术编号：2485914
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景技术1. 发明领域本发明涉及在基底上形成功能性材料的图案的方法，并且具体地讲，该方法利用具有浮雕表面的弹性印模在涂覆有功能性材料的基底上形成开放区域的图案。2. 相关技术的描述几乎所有电子器件和光学器件均需要进行图案化。长期以来一直均通过釆用光刻工艺形成所需的图案来制造微电子器件。根据这项技术，将导电材料、绝缘材料或半导电材料的薄膜沉积到基底上，并将负性或正性光致抗蚀剂涂覆到材料的外露表面上。然后以预定图案照射抗蚀剂，并洗掉表面上被照射到或未被照射到的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。