技术编号:24935218
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明为一种快速涂布的涂布机结构及其涂布剂的温控模块及阵列涂布模块,特别是用于对晶圆片进行涂布剂涂布的快速涂布的涂布机结构及其涂布剂的温控模块及阵列涂布模块。背景技术在半导体制造过程中,经常会使用感光材料暂时性的涂布在晶圆片上,然后将设计的图案,经由曝光转印到晶圆表面,而涂布光阻时,必须承受的制造过程条件,例如:涂布效率、涂布均匀性、旋转速度、烘烤温度、显影良莠、蚀刻阻抗、遮蔽離子布植…等,这些都关系到涂布品质的好坏,同时对后续产品的品质与良率,也都将有关键性的影响。如图1所示,一般涂布是利用真...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。