技术编号：2494274
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及硅太阳能电池制造过程中所使用的设备，特别涉及一种印刷机光学对准系统，适用于多晶、铸造单晶碱腐蚀硅片及抛光硅片两次及多次丝网印刷的套印过程，可以减少反射光干扰，准确找到印刷浆料定位点，提高太阳能电池印刷品质。背景技术在晶体硅太阳能电池丝网印刷过程中，使用Silicon Ink Selective Emitter (硅墨选择性发射极)或者Double Printing(两次印刷)等需要两次或多次丝网印刷套印的新型太阳能电池制造技术时，必须依靠印刷...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。