技术编号:24962326
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型主要涉及晶体材料加工设备技术领域,具体涉及一种水冷热屏用清洁装置及单晶炉。背景技术随着单晶生长周期的不断延长,单晶炉中的水冷热屏上的附着物会不断累积增加,导致水冷热屏对单晶生长过程中的冷却效果因附着物的累积而不断降低,对单晶生产过程的稳定性造成一定影响。实用新型内容有鉴于此,本实用新型提供一种水冷热屏用清洁装置,用以清洁水冷热屏表面的附着物,避免附着物影响水冷热屏对单晶的冷却效果。为解决上述技术问题,本实用新型采用以下技术方案:根据本实用新型第一方面实施例的水冷热屏用清洁装置,包括:充...
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