技术编号:25011887
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于镀膜设备技术领域,涉及一种多加工台往复式磁控溅射真空镀膜机。背景技术真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发、磁控溅射、mbe分子束外延和pld激光溅射沉积等很多种,主要思路是分成蒸发和溅射两种,需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材,基片与靶材同在真空腔中,蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜,对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子...
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