技术编号：2513204
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于纳米压印，具体为。 背景技术1995年St印hen. Y. chou发明了纳米压印技术。纳米压印就是用带有图形的硬模板 利用机械力压软的聚合物(胶)，从而可以将硬模板上的图形转移到胶上。与其他的光刻 技术，如电子束光刻、X射线光刻、极远紫外线光刻相比，纳米压印是一种高产量、廉价 的光刻技术而且分辨率可达到10nm以下。国际半导体技术发展路线图已将其定为32纳米 技术结点以下的光刻技术。经过十几年的发展，纳米压印技术巳广泛应用于光学、生物、 微机电...
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