技术编号：2514849
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种改进的服饰结构。现有的服饰结构单一，服饰上通常设置由激光打印、印制或缝制的一些平面logo，比较平凡，不易突出重点。本发明提供一种改进的服饰结构，其特征在于在服饰面层的上层还设有一硅胶层。所述的缓冲层形成多个对称的缓冲模块，所述缓冲模块与硅胶层之间设置空气层。所述相邻的缓冲模块之间设有间隔槽。所述的缓冲层由EVA或发泡材料制成。本发明在服饰面层上设置3d硅胶层，3d硅胶层可以是图案或各种logo，起到醒目的视觉效果。也提升了服装的耐磨耐滑性能...
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