技术编号：2545
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及。如在Appl.Phys.Lett Vo L.47、NO.5，第450页和Applied Optics，Vol.23，NO.1，第161页上说明的那样，人们通常使用ZrO2或Si3N4作为蒸镀材料对由Si或Ga As制成的元件进行反射防止膜的形成。这是因为这些元件的折射率为3.5，要求反射防止膜的折射率值在理论上为3.5]]>＝1.87。折射率大致能满足1.87的蒸镀材料是ZrO2和Si3N4。这些材料的块状的折射率各为2.05和1.98，然而在作为薄膜使用的情况下，通过调整蒸镀条件，可以达到折射率...
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