储液槽储液状态侦测方法及装置与流程技术资料下载

技术编号:25535148

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本发明涉及集成电路制造领域,尤其涉及一种储液槽储液状态侦测方法及装置。背景技术在某些半导体机台中,需要利用液体对半导体器件进行清洗或干燥处理。通常,需要监测储液槽内的液体的储液状态,以判断是否满足要求。所述液体的储液状态包括满(full)和空(empty)两种。通常,利用传感器来侦测干燥槽中液体的储液状态,在实际应用中,经常会出现传感器侦测错误而触发机台误报警的情况。机台误报警的缺点在于,一方面会导致半导体器件停留在储液槽内,影响到半导体器件的处理;另一方面会导致半导体机台停机次数增加,降低生产...
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