技术编号:25744298
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型属于硅片生产设备领域,尤其是涉及一种硅片红外烘烤装置。背景技术.硅片生产过程中,清洗好的硅片表面吸附着一层水膜,着水膜除不净,表面干燥度差,会对硅片的质量造成一定影响。硅片在清洗完后需要对其表面进行烘干作业,由于硅片厚度较薄,采用常规烤箱进行烘干极易因受热不均而造成裂片,同时在烘烤过程中也会出现各种脏污,如果不对烤箱结构进行专门设计脏污就会聚集在烤箱内,随着时间的积累烤箱变得越来越脏,烘烤后的硅片表面也不干净。因此急需一种烘烤效果好、能耗低的硅片烘干装置。发明内容.有鉴于此,本...
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