技术编号:25875901
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明属于功能材料技术领域,特别涉及一种环型高密度五氧化二钽镀膜材料的制备方法。背景技术.五氧化二钽(tao)的熔点为℃,其光学特性优异,对可见光及近红外光谱都具有很高的折射率。使用物理气相沉积法可将五氧化二钽镀膜材料制备成具有高折射率的tao薄膜,所得到的tao薄膜的光谱透过范围为.‑微米,折射率n=.(nm)。并且,膜层的物理化学性能稳定,可与sio相互配合,制备得到高折射率材料如增透膜、反射膜、滤光片等光学薄膜。.随着g技术的推广应用,数...
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