技术编号:25876373
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及半导体装置的制造方法、基板处理装置和记录介质。背景技术.作为半导体装置的制造工序的一个工序,有时要进行向处理基板的处理室内供给清扫气体来除去附着在处理室内的副生成物等的清扫工序(例如,参照专利文献)。.现有技术文献.专利文献.专利文献:日本特开-号公报发明内容.在进行了清扫工序之后,在处理室内有时会残存清扫气体的残留成分。在清扫气体具有在基板上生成的抑制层所包含的成分时,如果处理室内残存清扫气体的残留成分,则会有在成膜处理工序中不能选择性地形成膜的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。