技术编号:26001208
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种石英蚀刻方法及蚀刻基板,特别涉及一种适合在通过蚀刻来加工石英基板等时使用的技术。本申请基于2019年5月7日在日本申请的专利申请2019-087832号主张优先权,并将其内容援用于此。背景技术在使用光掩模及其它石英玻璃基板的产品中,为了得到规定的形状,有时会利用蚀刻剂对石英进行部分湿式蚀刻。此时,掩盖住规定部分之后,将该基板浸渍在可以蚀刻玻璃基板的药液(例如,氢氟酸、氟化铵、氢氧化钾等)中,由此,仅未被掩模覆盖而露出玻璃的区域的玻璃被侵蚀(蚀刻)。在利用氟酸系蚀刻剂对玻璃基板进行湿...
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