技术编号：26007721
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。相关申请的交叉引用本申请要求于2018年11月20日提交的欧洲申请18207326.2的优先权，所述申请的全部内容通过引用并入本文。本发明涉及可用于例如在由光刻技术进行器件制造中执行量测的检查设备以及方法。本发明还涉及用于在光刻过程中监测聚焦参数的这样的方法。背景技术光刻设备是将所需图案施加至衬底上(通常施加至所述衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(ic)的制造中。在该情况下，图案形成装置(其替代地被称作掩模或掩模版)可以用于产生待形成在ic的单层上的电路图案。可以将此图案转...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。