技术编号:26010201
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。相关申请的引用本申请要求2018年12月13日提交的题为“scanandcorrectormagnetdesignsforhighthroughputscannedbeamionimplanter(用于高生产量扫描束离子注入机的扫描和校正器磁体设计)”的美国申请第16/218,884号的优先权,其内容通过引用整体并入本文。本发明总体上涉及离子注入系统,更具体地,涉及用于提供扫描离子束的预定均匀性和角度分布的改进的系统和方法。背景技术传统上,离子注入机用于将指定量的掺杂剂或杂质放置于半导体工件或晶...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。