技术编号：26041292
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体清洗技术领域，具体为半导体自动化源钛清洗设备。背景技术半导体，指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在收音机、电视机和测温上有着广泛的应用，伴随集成电路制造工艺的不断进步，半导体器件的体积正变得越来越小，因此，清洗技术也变得越来越重要。现有市场上大多数半导体清洗设备大多为半导体单个清洁，浪费时间成本与人工成本，清洗时半导体大多位置固定，单一的清洗不能对半导体进行全面清洁，不利于清洁的彻底性。实用新型内容(一)解决的技术问题针对现有技术的不足，本实用新型提供了半导体...
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