技术编号:26052115
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及磁控溅射靶材制备技术领域,特别涉及一种旋转靶材的绑定加热装置,利用该绑定加热装置实现的旋转靶材的绑定加热方法以及计算机可读存储介质,计算机可读存储介质存储在绑定加热装置中,绑定加热装置处理器执行计算机可读存储介质中的计算机程序时实现绑定加热的方法。背景技术近年来,采用溅射法制备的薄膜材料因其高致密度、优良附着性等优点,受到平面显示器、电子处理器、玻璃镀膜、光学薄膜等行业的青睐。随着上述领域的高速发展,溅射靶材的需求量急剧增加。根据溅射面的形状,靶材通常可分为平面靶材,旋转靶材和异型靶材...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。