技术编号：26101164
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种真空泵，特别地涉及一种通过防止旋转体的过热而能够防止旋转体的破损且能够将大量的气体连续地排气的真空泵。背景技术随着近年来电子技术的发展，对存储器和集成电路等半导体的需要急速增加。这些半导体是将杂质掺杂于纯度极高的半导体基板而赋予其电学特性、通过蚀刻将精细的电路形成于半导体基板上等而制造的。并且，这些作业为了避免空气中灰尘等导致的影响而需要在高真空状态的腔室内进行。对于该腔室的排气，一般地使用真空泵，特别地从残留气体少，维修容易等方面考虑，经常使用作为真空泵其中之一的涡轮分子泵。此外...
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