技术编号：26101867
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。相关申请的交叉引用本申请要求于2018年12月20日递交的ep申请18214904.7的优先权，该ep申请的全部内容以引用的方式并入本文中。本发明涉及制造隔膜组件的方法，并且涉及隔膜组件前驱体。本发明具有结合euv光刻设备和euv光刻工具的特定但非排他性的用途。背景技术光刻设备是构造成将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于制造例如集成电路(ic)。光刻设备可以例如将图案化装置(例如掩模)处的图案投影到设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。为了将图案投影于衬底上，光刻设备可以使用电磁...
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