技术编号：26103907
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于利用等离子体处理材料的设备。特别地，本发明涉及包括用于微波系统的炬的设备，其适于产生和维持用于处理粉末材料的大气热等离子体。尽管该设备可以有利地用于处理插层石墨，但是该设备不限于这种用途。现有技术插层石墨或能够膨胀的石墨是在工业上用作膨胀材料的材料，或者在膨胀之后用作用于生产柔性石墨垫圈或用于通过各种技术生产石墨烯的基础。插层石墨的膨胀是通过快速加热石墨而发生的，使得诸如硫酸之类的插入剂的分子可以快速蒸发。最广泛使用的工业技术是炉内加热技术，炉是一种简单且相对便宜的系统。在这种情况...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
该类技术注重原理思路，无完整电路图，适合研究学习。