技术编号:26127361
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及光伏电池生产技术领域,具体涉及一种载具、来料插装装置及镀膜装置。背景技术物理气相沉积(physicalvapourdeposition,简称pvd)技术是在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。现有常用的物理气相沉积的主要方法有:真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜及分子束外延等。目前,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜,还可以沉积化合物、...
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