技术编号:26317012
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及cvd系统技术领域,尤其涉及一种进气及冷却装置及气相沉积装置。背景技术气体喷淋头用于向多种制造工艺如化学气相沉积(cvd)或金属有机气相沉积(mocvd)提供所需的一种或多种气体。通常情况下,为了避免气体喷淋头内部气体可能发生的化学反应,必须对气体喷淋头进行冷却。专利cn201410838723.9的在先申请中公布了气体喷淋头和沉积装置,该专利公布了喷淋头上设置有冷却板,冷却板上设置若干冷却管道区,每一冷却管道区内具有一组冷却管道,一组所述冷却管道包括自冷却板中心至边缘平行排列的多...
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