技术编号:26354160
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及显示技术领域,具体而言,本申请涉及一种阵列基板及显示装置。背景技术对于oled(organiclight-emittingdiode,有机发光二极管)显示装置来说,为了实现阴极与位于平坦化层下方的负极电源线负极电源线(vss)的搭接,需要将周边区的平坦化层去除。但高精度的oled显示装置的平坦层厚度较大,在对平坦化层进行干法刻蚀时,形成的过孔的深度较深,坡度角较大,增加了阴极制作过程中的爬坡难度,容易造成阴极在爬坡处厚度较薄,从而引起该区域的阴极的电阻过大,严重时甚至会出现阴极断裂的情...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。