技术编号:26420
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。专利摘要本实用新型涉及一种涡旋壁氧化装置,包括一定涡旋盘,其具有一从该定涡旋盘上表面朝向该定涡旋盘下表面轴向延伸的涡旋壁;一局部氧化工装,其相对于该定涡旋盘的外形开设有一内凹的容置空间,用以容置并对外封闭该定涡旋盘,其中,该容置空间具有一开口,该开口仅用以暴露出该涡旋壁。藉由本实用新型的涡旋壁氧化装置解决了现有技术中在氧化涡旋壁的同时,造成定涡旋盘的其他不需氧化的部件亦会被氧化的问题,在氧化涡旋壁,提高其硬度的同时亦保证了定涡旋盘其他部件的性能。专利说明一种涡旋壁氧化装置 技术领域 [0001]本实用新型属于涡...
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