技术编号:26635232
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型实施例涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种化学液浓度控制系统和清洗装置。背景技术.随着半导体技术的发展,制造半导体器件相关设备的应用也越来越广泛。.晶片清洗装置为制造半导体器件时常用的设备之一。晶片清洗基台中化学液需要维持稳定的浓度来对晶片进行清洗。.然而现有晶片清洗装置存在对化学液的浓度不能及时控制,导致化学液浓度不稳定,使得晶片被过度清洗或清洗不完全。实用新型内容.本实用新型提供一种化学液浓度控制系统和清洗装置,以实现保持系统中化学液浓度稳定,进而保证对晶片完全且适度清...
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