技术编号:26696597
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明属于物理气相沉积涂层技术领域,尤其涉及一种阴极电弧涂层靶材装置。背景技术.物理气相沉积(physical vapor deposition,简称pvd)是在高真空条件下,通过物理方法使原材料蒸发、电离,然后在电场、磁场的作用下,粒子运动到工模具表面堆积形成具有某种特殊功能涂层材料的技术。利用该技术不但可以制备金属、化合物、陶瓷涂层,而且可以制备半导体和超导体涂层。采用pvd技术制备的涂层不仅具备超高硬度、厚度薄、摩擦系数低等特点,而且耐高温、抗氧化、防腐蚀、耐磨损及自润滑,极其适用于...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。