技术编号：26711305
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及一种基于聚焦离子束刻蚀的加工正型结构的方法及应用，属于微纳米制造技术领域。背景技术.聚焦离子束(fib)是一种微纳米加工技术，其基本原理与扫描电子显微镜(sem)类似，采用离子源发射的离子束经过加速聚焦后作为入射束，高能量的离子与固体表面原子碰撞的过程中可以将固体原子溅射剥离。它在图形化金属结构方面具有以下几个优点：首先，它是一种全干法和无需抗蚀剂的一次性成形工艺，不涉及任何旋涂、显影和额外的图形转移等湿法步骤；第二，它可以在绝缘衬底上如石英，氟化钙和氟化镁等具有光学性质的材料上...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。