技术编号：2672925
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明系有关一种含有四氢呋喃甲基氧羰基官能基的可聚合烯类化合物及含其的光阻剂。该化合物可与其它化合物反应成为树脂。此树脂可做为辐射敏感性组合物光阻剂的主要成分。该种化合物具有提升树脂对基板的吸著力，强化树脂抗蚀刻的能力使此辐射敏感性组合物具有高解析度及良好对比，且能够在硷性水溶液显影等性质，适用于图样转换，可用于半导体及光电微影制程。过去十馀年来微影技术(microlithography)已在半导体工业制程上扮演举足轻重的重要角色。其主要的任务是将所设计的...
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