技术编号：2673288
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体制造装备，主要涉及。背景技术光刻机是半导体芯片制造中重要的超精密系统型工程设备之一，步进扫描式作为目前主流的光刻技术，其对工件台的运动性能提出更高的要求。工件台的主要作用是在高速和高加速度的条件下承载晶圆实现纳米级定位，完成光刻过程中的上下片、预对准、对准等工序，同时与掩模台配合完成曝光动作。工件台技术对于提高光刻机分辨率、套刻精度和产率具有至关重要的作用。产率是光刻机产业化发展的主要追求目标之一。提高产率采取的措施主要有两种一是增大晶圆直...
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