技术编号：2673409
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻工艺的匹配方法，尤其涉及一种。背景技术对于不同光刻涂布装置的工艺匹配，当相同图形尺寸发生偏移时，在量产一个产品时，将会有相同型号的多台光刻涂布装置进行同一工艺层的生产，由于每台光刻涂布装置对同一层的尺寸并不能做到完全一致，这就需要调整曝光参数NA和sigma，目前应用中会用很多片晶圆进行曝光参数的调整，一片晶圆对应一个参数，然后进行曝光和量测，不同的产品又要重复相同的工作，这就导致了大量晶圆的费用，增加了工程师的超常工作量。因此，本领域的...
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