技术编号：2673480
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明主要涉及光刻术，更具体地，涉及支撑结构和用于图案形成装置的布置。 背景技术光刻技术被广泛认为是制造集成电路(IC)以及其他器件和/或结构的关键工艺。 光刻设备是一种在光刻过程中使用以将所需图案应用到衬底上，例如是到衬底的目标部分上的机器。在使用光刻设备制造集成电路期间，通常可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。...
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