技术编号：2674996
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种。且特别是有关于一种以微影工艺，制造半导体元件等的微电子元件时使用的曝光装置所适用的反射折射型投影光学系统。例如，波长在200nm以下的真空紫外线区域，特别是以F2激光作为曝光光的情形，构成投影光学系统的光穿透性光学材料必须多半使用氟化钙(萤石CaF2)或氟化钡(BaF2)等的氟化物结晶。实际上，在使用F2激光作为曝光光的曝光装置中，基本上是假定仅以萤石来形成投影光学系统。萤石是属于立方晶系(等轴晶系)的结晶，在光学上是等方性的，因此实质...
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