技术编号：2674997
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种，尤其是有关于一种高析像的反射折射型的投影光学系统，适用于在利用光刻法工艺制造半导体元件和液晶显示元件等时使用的投影曝光装置。例如，当使用波长为180nm以下的曝光光时，达成0.1以下的高析像是可能的。但是，一旦照明光的波长变短，光的吸收就变得显著，能够用于实用的玻璃材料的种类就受到了限制。尤其是当照明光的波长变为180nm以下时，可用于实用的玻璃材料就只限于硝材或萤石。结果，在折射型的投影光学系统中，色相差的补正变得不可能。在此，所谓折...
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