技术编号：2676795
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及液晶面板制造领域，尤其涉及一种光刻胶用涂布装置。 背景技术在TFT-IXD (薄膜场效应管液晶显示器)面板加工过程当中，主要包括镀膜、涂胶、 显影及刻蚀等几道工艺，从而得到相应的TFT图案。其中，在MASK工艺当中，需在镀膜完成之后的基板之上先涂布感光材料，之后进行曝光，再将曝光后的基板进行显影。这其中，涂布感光材料部分又包括预涂胶、高速甩胶、低压干燥和端面清洁四个单元。对于涂胶过程而言，设备使用率和生产节拍是影响涂胶设备产能的重要指标。其中...
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