技术编号：2676851
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景技术本发明涉及一种光刻投射装置，包括-用于提供辐射投射光束的辐射系统；-用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；-用于保持基底的基底台，所述基底具有一标记；-用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；和-采用辐射对准光束来检测参考标记和所述标记之间对准的对准系统。 背景技术 这里使用的术语“构图部件”应广义地解释为能够给入射的辐射束赋予带图案的截面的部件，其中所述图案与要在基底的靶部上形成的图案一致；本文中也...
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