技术编号：2677979
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及液晶灌注领域，尤其涉及一种液晶灌注设备。 背景技术目前，在 TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)生产中，经常使用真空灌注模式在液晶器皿内注入液晶。具体来说，首先在真空环境下使液晶器皿内的空气及其他异物脱出，然后将液晶器皿的注入口浸入液晶中，通过虹吸作用，液晶材料会流入液晶器皿的内部，直到完成灌注。上述传统的真空灌注模式，需要人工操作来完成液晶灌注和液晶...
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