技术编号：2678078
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般地涉及使用无铬相位光刻技术的掩模图案的生成，具体来讲是用于将一目标设计分解为利用镀铬和相位移技术印刷特征的相应掩模图案。此外，本发明还涉及一种使用一光刻装置的器件制造方法，所述光刻装置包括一个用于提供投影射束的辐射系统；用于承载一个用来使所述投影束形成图案的掩模的掩模平台；一个用于承载一衬底的衬底平台；以及一个用于将已形成图案的投影束投影到所述衬底的目标部分上的投影系统。背景技术 举例来说在集成电路(IC)的制造中可以使用光刻投影装置(工具)。在...
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