技术编号：2678638
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种电学基本电气元件领域半导体器件中的抗反射层(anti-reflective coating，简称ARC)及采用此种抗反射层的微影制造方法，特别是有关一种多重抗反射层(multiple ARC)及其采用此种多重抗反射层的微影制造方法。背景技术 随着线宽尺寸的缩减，使得微影制造方法即微影制程的困难度增加，因为线宽缩小，容易发生对准失误的情形。尤其是在定义导体层时，因为导体层材质的反射系数(reflectivity index)通常较大，致使定义时...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。