技术编号：2679083
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型是涉及一种三自由度并联机构，尤其是涉及一种用于浸没单元调节的 3-PSR-V并联机构。背景技术在浸没式光刻设备进行曝光时，浸没单元将安装于硅片上方，并在承片台带动硅片进行扫描的过程中维持浸没流场。为了保证曝光质量，必须要保证浸没流场的均一稳定。 浸没单元正常工作时需要控制浸没单元下表面与硅片上表面的距离，并保持平行或在一定角度范围内，因此需要有一个机构可以对浸没单元的空间姿态和位置进行自动调节。现有的三自由度并联机构也可以完成这个功能，但存在以下...
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