技术编号：2680306
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型有关于一种用于蚀刻电路制程的曝光机光罩，特别指一种可避免光罩交界处图形曝光不佳的曝光机光罩。背景技术一般在进行芯片加工时，为了能够在芯片基底上设置出细小而复杂的电路结构，会以各种物理或化学的方式重复对芯片表面进行堆积或蚀刻。而用来控制堆积或蚀刻区域的最主要手段便是利用曝光显影的方式，先在芯片表面设置具有微小电路图案的光阻层，利用光阻层将无需进行加工的部分遮蔽住，接着便能够精确的对所欲加工产生电路的区域进行堆积或是蚀刻。由此可知，曝光显影时的精确度...
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