技术编号：2681365
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及液晶显示，尤其涉及一种曝光机及曝光系统。背景技术在液晶显示，光刻工艺过程中需要使用带有图形的掩模板对待曝光的基板进行曝光，成膜后的基板经曝光、刻蚀等工艺，形成具有一定图案的器件或者紫外掩模玻璃板(UV Mask Glass)。现有曝光机只能利用位于待曝光基板上方的掩模板(Mask)得到一定的图案。一种型号的待曝光基板对应一种型号的掩模板。对于不同型号的待曝光基板，现有技术需要购买与待曝光基板相对应的不同型号的掩模板。尤其是阵列基板和彩膜基板在...
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