技术编号：2681843
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及适配微光刻的投射曝光设备的方法。此外，本发明涉及操作微光刻的投射曝光设备的方法。最后，本发明涉及配备执行上述两个方法的微光刻的投射曝光设备。背景技术在下文中被简称为投射曝光设备的、微光刻的投射曝光设备通常包括光源、处理 由光源发出的光线以形成照明光的照明系统、要被投射的物体(通常被称为掩模母版或掩模)、将物场成像至像场上的投射物镜(下文简称物镜)、以及在其上进行投射的另一物体(通常被称为晶片)。掩模或掩模的至少一部分位于物场中，且晶片或晶片的至少...
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