技术编号：2681943
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种一面将基板进行移动，一面交替地形成取向状态互不相同的二种条纹状的取向区域的取向处理方法，详细地为涉及想要缩短上述取向处理工序的节拍的取向处理方法及取向处理装置。背景技术现有的这种取向处理方法是使用以一定的排列间距形成条纹状开口的光掩模，对涂敷了取向膜的基板自斜向进行了第一次紫外线照射之后，使基板或者基板和光掩模两者旋转180度，挪动光掩模的相对于基板的相对位置以对第一次紫外线未照射到的区域进行第二次紫外线照射(例如，参见专利文献I)。另外，其...
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